丸文財団 国際交流助成（第2期）

概要

丸文財団の国際交流助成（第30回・第2期）。産業技術に関する5分野（集積エレクトロニクス及び情報システム応用、光エレクトロニクス、先端材料・デバイス及びシステム、エネルギー・環境エレクトロニクス、バイオ・医用エレクトロニクス）の若手研究者の国際学会参加・共同研究・インターンシップを支援。国際学会等参加は上限40万円、共同研究・インターンシップ（2ヶ月以内の海外派遣）は上限80万円。年間総額2,200万円、約80件助成。応募資格は2027年3月31日現在で35歳以下の大学・公的研究機関の大学院生・若手研究者（国籍不問、特別推薦理由がある場合40歳以下も可）。所属長推薦が必須。第2期は2026年8月1日〜11月30日の渡航が対象。推薦書はPDF/Word形式でダウンロード可。選考委員長は天野浩氏。結果通知は出発日の約1ヶ月前まで。問い合わせ: TEL 03-3661-1881。

応募要件

35歳以下の研究者・大学院生（所属長推薦必要）

対象となる研究

産業技術分野（集積エレクトロニクス、情報システム応用等）の国際学会発表・海外共同研究

採択されやすい研究像

①エレクトロニクス・情報通信分野での研究成果 ②国際学会発表の具体的計画 ③所属長の推薦。難易度は低め。

過去の採択傾向

年間約80件助成。エレクトロニクス・情報通信分野の若手研究者の国際交流を広く支援。

応募方法

申請システム: Web

必要書類:

• 推薦書（PDF/Word）

記載項目:

• 研究概要
• 発表内容
• 渡航計画

申請手続きガイド

事前準備チェックリスト

申請手順

1. 🔬 研究者 申請システムにログイン

   登録したアカウントで財団の申請システムにログインします。パスワードを忘れた場合はリセット手続きに時間がかかることがあるため、余裕をもって確認してください。
2. 🔬 研究者 申請フォームの入力

   画面の指示に従い、研究テーマ、研究計画、予算、研究者情報などを入力します。財団ごとにシステムが異なるため、入力途中の保存機能があるかどうかを最初に確認してください。
3. 🔬 研究者 添付書類のアップロード

   研究計画書、予算書、業績一覧などの添付書類をアップロードします。ファイル形式（PDF、Word等）やサイズ上限を確認してください。アップロード後にプレビューで内容を確認することを推奨します。
4. 🔬 研究者 入力内容の確認・提出

   すべての入力内容と添付ファイルを確認画面で最終チェックし、提出します。提出完了後に確認メールが届くことを確認してください。確認メールが届かない場合は財団に問い合わせてください。

申請のポイント

• 財団ごとに申請システムが異なります。初めて応募する財団の場合は、早めにアカウント登録とシステムの操作確認を行ってください。
• 提出前にブラウザの印刷機能やPDF出力で申請内容を保存しておくことを推奨します。提出後に内容を閲覧できないシステムもあります。
• 一時保存機能がないシステムでは、長文の入力項目はあらかじめテキストエディタで準備し、コピー＆ペーストで入力すると安全です。
• 推奨ブラウザが指定されている場合があります。申請前にシステムの動作環境を確認してください。