2026年 東京エレクトロン 共同研究公募制度

概要

東京エレクトロンが半導体製造装置およびディスプレイ製造装置に関する基盤技術・応用技術の研究テーマを大学等から公募し、共同研究として実施する制度。研究テーマの技術成熟度に応じて「原理検証プログラム」と「応用研究プログラム（小型・中型・大型）」の2プログラム4区分を設ける。応募は共同研究計画提案書のPDFをメールで提出する形式で、1次審査（書類）と最終審査（プレゼンテーションおよび質疑応答）を経て、共同研究契約の締結をもって正式採択となる。共同研究の開始は2027年4月1日。

応募要件

日本国内の大学および大学院（国公立・私立問わず）、高等専門学校、その他公的研究開発機関のいずれかに所属し、該当機関において自律的な研究をおこなうことが可能な研究者。営利事業を目的とした法人に所属する研究者、および研究機関に所属しない個人は対象外

対象となる研究

当社製品である半導体製造装置（成膜、コータ／デベロッパ、エッチング、洗浄、プローバ、3次元実装など）およびディスプレイ製造装置に関する基盤技術・応用技術の研究、特にデバイス製造における新たなニーズに適合する研究。加えて、将来的な同社の事業領域への貢献が期待される、独創的かつ挑戦的なアカデミックな視点からのシーズ技術の研究（材料、プロセス、ロボティクス、計測、シミュレーション、制御、AI活用などを含む）。別表Iの研究対象領域は、理工学全般（薄膜・表面界面物性、構造・機能材料、プラズマ応用技術、シミュレーション工学、分析・計測技術）、化学（化学プロセス、新材料）、工学全般（生産技術、新材料、センサー・制御技術、コンピュータ・知能情報処理）、環境工学・持続可能低炭素社会実現（創エネルギー、省エネルギー、カーボンニュートラル）。すでに他機関から同一課題・目的で資金提供を受けている研究テーマは対象外（応募時点での他助成への併願自体は可だが、他助成で採択され資金提供を受けた場合の重複採択は不可）。

採択されやすい研究像

公式の審査基準（募集要項⑧）は「当社の事業領域である半導体製造装置技術における技術ニーズと関連性があること」「将来的な当社の事業領域への貢献が期待されるシーズ技術に関する研究であること」の2点に重点を置き、加えて「共同研究計画提案書の内容および研究計画の妥当性や将来性、継続性の観点で優れていること」を挙げている。したがって採択に近いのは、別表Ⅰの研究・技術領域（ナノ・原子スケールの材料構造制御技術と物性反応制御技術、エッチング・成膜・表面改質技術、半導体デバイス材料の成膜技術、プラズマ発生源とプラズマ制御技術およびプラズマ計測・診断技術、空間場の定常・非定常・過渡応答シミュレーション技術、ナノ・原子スケールの分析・計測技術、洗浄・酸化・還元プロセスや触媒応用プロセス技術、プリカーサ設計・供給技術やフォトレジスト材料、超精密加工・積層造形・接合などの製造加工技術と基板搬送技術、各種センシング技術と基板・処理室内環境制御技術、高速・大容量画像処理や装置生産性を向上させるAI・マテリアルズインフォマティクス・DX技術・量子コンピュータを用いた科学計算技術、創エネルギー・省エネルギー・温室効果ガス分離吸着技術）のいずれかに正面から当たり、同社製品である半導体製造装置（成膜、コータ／デベロッパ、エッチング、洗浄、プローバ、3次元実装など）およびディスプレイ製造装置のニーズに接続できる研究である。書き方の面では、募集要項⑦が最終審査に向けて「実施計画については、内容を複数の項目に分け、項目ごとに可能な限り具体的な数値目標（定量的な成果指標）（詳細は募集要項）

応募方法

申請システム: 独自（メール提出）。宛先 telstdkyokenkoubo@tel.com。メールタイトルは「【2026年 東京エレクトロン 共同研究公募提案書：研究機関名・氏名】」

必要書類:

• 共同研究計画提案書（公式応募用紙 Entry_sheet_2026.docx に記入しPDF化してメール添付）
• 研究テーマ詳細の補足資料（別紙。任意添付）

記載項目:

• 提案者（共同研究代表者）の情報：研究機関名、機関コード（科学研究費助成事業にかかる機関番号）、所属部署、役職、研究者番号（e-Rad研究者番号）、フリガナ、氏名、住所、連絡先電話番号、E-mail
• 研究室代表者（提案者が所属する研究室の代表研究者と異なる場合に記載）の氏名・役職
• 事務担当窓口（同社から最初にコンタクトする事務担当の連絡先）：部署、フリガナ、担当者氏名、住所、連絡先電話番号、E-mail
• 本共同研究公募制度を知ったきっかけ（複数回答可）および募集要項・共同研究計画提案書の分かりやすさに関する回答と改善点
• 研究規模の選択（原理検証／応用研究：小型／応用研究：中型／応用研究：大型）
• テーマ名
• 研究概要（研究テーマ詳細から抜粋し500字以内）
• 関連特許（公開／登録番号、特許名称／発明者）
• 関連研究論文
• 助成金状況（直近5年、採択年度順。制度名、課題番号、研究課題名、研究期間）

申請手続きガイド

事前準備チェックリスト

申請手順

1. 🔬 研究者 申請書の記入

   応募要領の記入例を参照しながら申請書を作成します。手書き指定の財団もありますが、多くはWordやPDFのフォーマットで作成可能です。記入欄のサイズに合わせて簡潔に記述してください。
2. 🏢 事務担当者 機関長の押印・推薦書の取得

   学長・学部長等の機関長印が必要な書類に押印を受けます。学内の決裁手続き（稟議）が必要な場合があり、数日から1週間程度かかることがあります。機関長の推薦書が別途必要な場合は、推薦文の原案も準備してください。
3. 🏢 事務担当者 提出書類のコピー保管

   提出する書類一式のコピーを取り、機関内で保管します。採択後の経理処理や報告書作成の際に参照が必要になります。スキャンしてPDFでも保管しておくと便利です。
4. 🏢 事務担当者 🔬 研究者 簡易書留での郵送

   書類一式を封筒に入れ、簡易書留（または公募要領で指定された方法）で郵送します。封筒の表面に「○○助成金応募書類在中」と朱書きすることが一般的です。配達記録が残る方法で送付してください。
5. 🏢 事務担当者 到着確認

   簡易書留の追跡番号で配達状況を確認します。到着確認の連絡をくれる財団もありますが、不安な場合は財団に電話で確認してください。

申請のポイント

• 「消印有効」と「必着」を必ず確認してください。必着の場合は余裕をもって発送する必要があります。
• 機関長印（学長印・学部長印）の取得に数日〜1週間かかる場合があります。学内の押印申請スケジュールを事前に確認してください。
• 一部の民間財団では推薦件数の制限（1機関あたりN件）があります。学内で応募調整が必要な場合は、研究推進課に早めに相談してください。
• 書類の折り曲げ禁止、クリップ使用（ホチキス禁止）など、書類の体裁に関する細かい指定がある場合があります。応募要領を熟読してください。